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這種由合金構成的磁性膜通過諸如濺射或蒸發(fā)之類的薄膜形成來形成。可以通過使用現(xiàn)有的濺射裝置來進行濺射，例如RF兩濺射，DC濺射，磁控濺射，三濺射，離子束濺射或對靶濺射。

在軟磁性合金膜中添加O（氧）時，反應型濺射是的，其在通過將諸如Ar之類的惰性氣體與O 2氣體混合而獲得的混合氣體氣氛中進行濺射。

除此之外，還可以通過使用通過將稀土元素等的粒料排列在Fe靶上而獲得的復合靶，在諸如Ar的惰性氣體中制造軟磁合金膜。

此外，軟磁性合金結構可以由非晶相組成，或者部分地包括b-c-c結構的Fe的微晶相。一種軟磁合金織構，其細晶相具有較大的晶粒尺寸，且其中晶相占較大比例，其電阻率相對較低，而其中包含大量氧的非晶相構成了較大的比例。該結構傾向于具有高的電阻率。

如上所述，通過使用具有良好的磁特性和高的電阻率的軟磁性合金膜在基板上形成螺旋狀的平面線圈，可以得到具有良好的磁特性的磁性元件。使用RF磁控濺射裝置，通過在由Ar和0.1至1.0的混合物組成的氣氛中使用由Fe靶組成的復合靶進行濺射，該Fe靶上布置有本發(fā)明的元素M或M'的顆粒。